6月7日|璞璘科技6月5日發佈消息稱,公司與深圳力策合作採用真空氣壓式納米壓印方案實現8英寸光芯片量產突破:依託璞璘科技自主研發的PL-AS真空氣壓式晶圓級納米壓印光刻設備,配合定製化雙層壓印膠材料體系與核心工藝,完全繞開深紫外(DUV)光刻路線,成功實現8英寸光芯片晶圓可規模化量產,並將芯片製造成本壓縮至傳統DUV方案的十分之一。據悉,納米壓印不用光學曝光,靠“納米印章”物理壓印復刻納米圖案,具有超高分辨率、易量產、低成本、一致性高的技術優點,被認為是目前光刻技術替代方案之一。
新聞來源 (不包括新聞圖片): 格隆匯